GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。

GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12”)晶圓。

GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進(jìn)晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計(jì)的。 GNP POLI-500廣泛用于耗材供應(yīng)商，襯底制造商和芯片開發(fā)商的8“(200mm)高級研發(fā)評估。 GNP POLI-400L是專為先進(jìn)的化學(xué)機(jī)械拋光工藝開發(fā)應(yīng)用，如MEMS, as以及化學(xué)機(jī)械拋光特性研究。該系統(tǒng)擁有成本低，占地面積小。

韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機(jī)是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機(jī)器。

WaferStorm平臺是先進(jìn)封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個(gè)版本——手動加載 （ML） 和 3300 系列平臺。ML系統(tǒng)非常適合研發(fā)和試驗(yàn)環(huán)境。3300 系列平臺是該行業(yè)的大批量主力軍。

皮拉尼真空計(jì)，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍 該真空計(jì)從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能，使「降成本」和「省空間」成為可能。