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    當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  其他前道工藝設(shè)備  >  6 清洗設(shè)備  >  GNP CLEANER-812LCMP后清洗機

    CMP后清洗機

    簡要描述:GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12")晶圓。

    • 產(chǎn)品型號:GNP CLEANER-812L
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時間:2024-09-05
    • 訪  問  量: 385

    詳細介紹

    1. 產(chǎn)品概述

    適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

    配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

    電刷尺寸:70(外徑)32(內(nèi)徑)320()毫米

    預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

    輥刷工位

    化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

    刷型:雙面PVA

    轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

    化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過刷子

    可用化學(xué):2化學(xué)[NH4OH]            

    化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

    DI流量:滿量程<5L/min

    轉(zhuǎn)站

    旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/DIW沖洗/ N2

    控制工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

    程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡(luò)可比


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