原子層沉積ALD

簡(jiǎn)要描述：Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和最長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達(dá)6條獨(dú)立的前驅(qū)體生產(chǎn)線，可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實(shí)用選擇。

產(chǎn)品型號(hào)：Phoenix
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-05
訪問(wèn) 量： 248

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Phoenix – 批量生產(chǎn)原子層沉積

1. 生產(chǎn)能力

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達(dá)6條獨(dú)立的驅(qū)體生產(chǎn)線，可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實(shí)用選擇。

2. 主要功能包括

對(duì)工藝參數(shù)（包括溫度、流量和壓力）進(jìn)行精確的軟件控制，即使在敏感的基材上也能實(shí)現(xiàn)無(wú)缺陷的涂層

獲得利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉積物積聚，并大限度地減少多余的工藝氣體排放到環(huán)境中

大型工藝室可容納 GEN 2.5 襯底、多個(gè)晶圓盒和更大的 3D 物體

擁有成本低，啟動(dòng)和運(yùn)營(yíng)成本低

占地面積小，可節(jié)省寶貴的潔凈室空間

標(biāo)準(zhǔn)配方和 ALD 材料

來(lái)自技術(shù)團(tuán)隊(duì)和博士科學(xué)家的全球全面支持和服務(wù)

符合 CE、FCC 和 CSA 標(biāo)準(zhǔn)，具有許多內(nèi)置安全功能

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