原子層沉積ALD

1. 產(chǎn)品概述

Savannah®配備了高速氣動(dòng)脈沖閥，以實(shí)現(xiàn)我們的曝光模式™，用于在超高寬寬比基板上沉積薄膜。這種經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的精密薄膜鍍膜方法可用于在縱橫比大于 2000：1 >基板上沉積保形、均勻的薄膜。Savannah® 提供三種配置：S100、S200 和 S300。Savannah® 能夠容納不同尺寸的基材（S300 可達(dá) 300 毫米）。Savannah®薄膜沉積系統(tǒng)配備了加熱的驅(qū)體線，并可選擇添加多達(dá)六條線。Savannah® 能夠處理氣體、液體或固體體。

Veeco 原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問(wèn)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的長(zhǎng)。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。Savannah® 已成為全球從事原子層沉積 （ALD） 的大學(xué)研究人員的選系統(tǒng)，他們正在尋找經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且強(qiáng)大的平臺(tái)。在過(guò)去十年中，我們已經(jīng)交付了數(shù)百個(gè)這樣的系統(tǒng)。Savannah®對(duì)驅(qū)體的高效利用和節(jié)能特性大大降低了薄膜沉積系統(tǒng)的運(yùn)行成本。

2. 主要功能包括

原位橢圓偏振儀

原位質(zhì)量控制

自組裝單層膜

2循環(huán)時(shí)間

綜合臭氧

低蒸氣壓沉積

批處理

手套箱集成