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    • RISE-300自然氧化膜去除設(shè)備

      自然氧化膜去除設(shè)備去除設(shè)備 RISE-300批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜的批處理式預(yù)清洗裝置??商幚?00mm,300mm尺寸晶圓。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:RISE-300
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
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    • NA-1300系列去膠設(shè)備

      去膠設(shè)備NA-1300系列 從關(guān)鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝,Luminous NA系列可對應(yīng)廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:NA-1300系列
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      瀏覽量:478
    • IH-860DSICSiC用高溫離子注入設(shè)備

      SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC 搭載了高溫ESC(靜電吸附卡盤)的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:IH-860DSIC
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      瀏覽量:556
    • IMX-3500離子注入設(shè)備

      研究開發(fā)用中電流離子注入設(shè)備IMX-3500 中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對應(yīng)大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置,適用于大學(xué)等機(jī)構(gòu)的研究開發(fā)。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:IMX-3500
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      瀏覽量:566
    • SOPHI-400離子注入設(shè)備

      高能對應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400 可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:SOPHI-400
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
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    • SOPHI-30離子注入設(shè)備

      可對應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30 低加速、高濃度對應(yīng)的離子注入設(shè)備。

      更新時(shí)間:2024-09-06
      型號:SOPHI-30
      廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      瀏覽量:583
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