Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個(gè)主要問(wèn)題時(shí)，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過(guò)每次運(yùn)行的沉積面積來(lái)衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過(guò) 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門(mén)級(jí)到中級(jí)用戶而設(shè)計(jì)。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積，工藝室設(shè)計(jì)促進(jìn)了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進(jìn)一步增強(qiáng)了系統(tǒng)性能?？傮w而言，該ALD150LE™在緊湊的設(shè)計(jì)中提供了的靈活性和性能，而不會(huì)犧牲可維護(hù)性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級(jí)研發(fā) （R&D） 應(yīng)用而設(shè)計(jì)。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計(jì)功能，如我們的前驅(qū)體聚焦技術(shù)™，以及我們超高純度 （UHP） 工藝能力等進(jìn)步技術(shù)，提供了靈活性和性能。

概述 針對(duì)有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化 多達(dá) 12 個(gè) LTE 信號(hào)源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000：1 多達(dá) 4 個(gè)熱蒸發(fā)源 基板快門(mén) 自動(dòng)基板、掩膜存儲(chǔ)和更換 高溫計(jì)端口 手套箱接口設(shè)計(jì)，帶滑動(dòng)前門(mén)和滑動(dòng)后門(mén) KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統(tǒng)控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥

Kurt J. Lesker Company 的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)是一種成熟、堅(jiān)固和多功能的設(shè)計(jì)。SPECTROS建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。腔室設(shè)計(jì)、具有高級(jí)編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時(shí)配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在全球擁有100多臺(tái)設(shè)備，是一種成熟、堅(jiān)固和多功能的設(shè)計(jì)。Mini SPECTROS建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。技術(shù)的腔室設(shè)計(jì)、具有高級(jí)編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時(shí)配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，這些