薄膜沉積PVD設(shè)備

Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個(gè)主要問(wèn)題時(shí)，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過(guò)每次運(yùn)行的沉積面積來(lái)衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過(guò) 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。

泵送選項(xiàng)以及它們?nèi)绾斡绊懩耐掏铝?/h3>

• 為了最大限度地提高吞吐量，應(yīng)考慮右圖所示的抽空時(shí)間。

• 根據(jù)右圖，可以總結(jié)出，升級(jí)到更大的高真空閥門可能會(huì)導(dǎo)致每個(gè)班次額外生產(chǎn)兩批晶圓（使用所示示例）。

• 請(qǐng)參閱表格，其中顯示了提供的所有泵送配置以及典型的泵送量和基本壓力。

內(nèi)部安裝陰極

• 內(nèi)部安裝可實(shí)現(xiàn)可調(diào)節(jié)的源-基板距離，是均勻性和速率優(yōu)化的理想選擇。

外部安裝陰極

• 外部安裝的陰極便于訪問(wèn)公用設(shè)施，并能夠硬安裝射頻調(diào)諧器以增強(qiáng)電源集成。此選項(xiàng)具有固定的源-基板投射距離。

鉸鏈?zhǔn)酱趴毓荛T

• 可以輕松訪問(wèn)濺射源以進(jìn)行靶材更改、調(diào)整源與襯底的距離以及源維護(hù)。

標(biāo)準(zhǔn)和高強(qiáng)度磁鐵陣列

• 標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)度：目標(biāo)利用率高，針對(duì)非磁性材料
  （例如金屬和粘結(jié)陶瓷）進(jìn)行了優(yōu)化

• 高強(qiáng)度：針對(duì)高度矯頑力的目標(biāo)材料
  進(jìn)行了優(yōu)化，例如鎳、鐵、鈷、坡莫合金

直接和間接冷卻設(shè)計(jì)

• 直冷：水冷直接位于目標(biāo)的背面。
  當(dāng)需要高吞吐量或?yàn)R射導(dǎo)熱性差的材料時(shí)
  優(yōu)點(diǎn)：更高的功率密度能力，可提高濺射率！

• 間接冷卻：水冷通過(guò)固體膜或背板與目標(biāo)接觸。
  當(dāng)高吞吐量不重要時(shí)。
  優(yōu)點(diǎn)：目標(biāo)水和冷卻水之間有堅(jiān)固的屏障，減少了直接泄漏到腔室的機(jī)會(huì)。