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當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 其他前道工藝設(shè)備 > 6 清洗設(shè)備 > GNP CLEANER-412RCMP后清洗機
簡要描述：GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
產(chǎn)品型號：GNP CLEANER-412R廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-09-04訪 問 量： 374產(chǎn)品分類
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1. 基本參數(shù)
適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")
配置:輸入噴淋清洗，兩個雙面刷清洗和旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)
清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內(nèi)徑)170(長)毫米
預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學(xué)：nh4oh或DIW
刷頭型式:PVA刷頭，可同時清洗晶圓片的正反面
刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)
轉(zhuǎn)速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm
化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過毛刷
可用化學(xué)品:2個化學(xué)品[NH4OH]
化學(xué)和DI流量:<滿量程的±5%。
轉(zhuǎn)站
選項:超高速掃描
旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/分DI漂洗/ N2吹
控制工藝流程:手動加載，自動順序，濕/干液晶觸摸屏顯示器，程序控制PLC式。
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