CMP后清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景，其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進(jìn)干出，適用于各類CMP后晶圓的清洗。

產(chǎn)品型號(hào)：TSC-100/300S/200L
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-06
訪問量： 307

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該系列設(shè)備是晶圓CMP后的用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景，其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進(jìn)干出，適用于各類CMP后晶圓的清洗。

功能齊全

系列設(shè)備均配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能

操作簡(jiǎn)便

PLC系統(tǒng)，觸摸屏控制，一鍵式自動(dòng)完成刷洗清洗加工，其中連線式設(shè)備配有全自動(dòng)上下片系統(tǒng)，cassette to cassette使用更加方便

兼容性好

通過更換夾具，可兼容4-12英寸晶圓

占地面積小

盡量減少潔凈間的占地面積

產(chǎn)品參數(shù)

規(guī)格/型號(hào) TSC-100 TSC-300S TSC-200L
工藝單面刷洗雙面刷洗雙面刷洗
清洗工位單腔單工位單腔單工位連線式6工位
上下片手動(dòng) 手動(dòng) 全自動(dòng)
機(jī)械手無無雙臂機(jī)械手
晶圓尺寸 4-6 inch 4-12 inch 6-8 inch
漂洗（預(yù)清洗） DIW沖洗 DIW沖洗 DIW沖洗
刷洗機(jī)構(gòu) 1個(gè)PVA刷，單面刷洗 2個(gè)PVA刷，雙面刷洗 2個(gè)PVA刷，雙面刷洗
兆聲清洗可選可選可選
氮?dú)獯蹈?/span> 有有有

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規(guī)格/型號(hào)	TSC-100	TSC-300S	TSC-200L
工藝	單面刷洗	雙面刷洗	雙面刷洗
清洗工位	單腔單工位	單腔單工位	連線式6工位
上下片	手動(dòng)	手動(dòng)	全自動(dòng)
機(jī)械手	無	無	雙臂機(jī)械手
晶圓尺寸	4-6 inch	4-12 inch	6-8 inch
漂洗（預(yù)清洗）	DIW沖洗	DIW沖洗	DIW沖洗
刷洗機(jī)構(gòu)	1個(gè)PVA刷，單面刷洗	2個(gè)PVA刷，雙面刷洗	2個(gè)PVA刷，雙面刷洗
兆聲清洗	可選	可選	可選
氮?dú)獯蹈?/span>	有	有	有

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