涂膠與顯影機

簡要描述：ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設計的。它提供了復雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用領域。結合這一優(yōu)點，再加上有8個旋涂器模塊，該系統(tǒng)仍然是市面上占地面積最小的系統(tǒng)；這些品質(zhì)都有利于減小購置成本，使得該設備對于任何具有挑戰(zhàn)性的先進封裝應用(如圓片級芯片封裝、扇出圓片級封裝、銅柱倒裝芯片封裝和3D封裝)

產(chǎn)品型號：ACS300 Gen3
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-08-12
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詳細介紹

一個工具適用于所有先進的包裝應用

通過在一個系統(tǒng)中提供多種工藝技術，如光阻劑、聚酰亞胺和PBO涂層，ACS300 Gen3提供了高效率。它還為每個模塊提供了多達五種抗蝕劑或四種顯影劑的能力，以實現(xiàn)最佳的工藝靈活性。此外，通用的熱板設計消除了對不同抗蝕劑或PI類型的特定熱板的需要。ACS300 Gen3允許同時處理200和300毫米的晶圓，而不需要進行機械轉換。

一致的過程監(jiān)控導致高產(chǎn)量

ACS300 Gen3可以實現(xiàn)高效的模塊堆疊，從而節(jié)省了潔凈室中昂貴的空間。多達12個模塊可以方便地在三層模塊系統(tǒng)中相互排列，而該工具的多種節(jié)省化學品的功能實現(xiàn)了進一步的節(jié)約。無論是SUSS MicroTec公司專有的GYRSET技術、新穎的分配技術還是化學品再循環(huán)系統(tǒng)，該工具都能經(jīng)濟地使用化學品，并符合的可持續(xù)發(fā)展標準。

在吞吐量方面表現(xiàn)出色

當使用可選的第二個機器人系統(tǒng)時，ACS300 Gen3在三步流程中達到了高達240 wph的吞吐率。一個先進的過程控制系統(tǒng)優(yōu)化了處理時間：調(diào)度算法可以有選擇地交換，以確保瓶頸步驟的時間段得到充分的利用。此外，諸如在高溫下的顯影劑和流動模式的特點也減少了加工時間。

一致的過程監(jiān)控導致高產(chǎn)量

使ACS300 Gen3脫穎而出的是其高度的過程控制。它可以連續(xù)記錄所有相關參數(shù)的過程數(shù)據(jù)，如溫度、流量、壓力、體積、清洗率等。數(shù)據(jù)記錄允許精確調(diào)整過程參數(shù)、可重復的結果和快速識別潛在的薄弱點。過程變得更加穩(wěn)定和可重復，產(chǎn)量也可以顯著提高。