無掩模光刻機

1. 產(chǎn)品概述：

臺式 μMLA 系統(tǒng)是優(yōu)良的無模板技術(shù)，建立在的 μPG 平臺之上，該平臺是全球高的臺式無模板系統(tǒng)。它是一款入門研發(fā)（R&D）工具，幾乎適用于任何需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。典型的例子有微流控（細胞分選裝置、芯片實驗室）、小規(guī)模掩模寫入、微光學(xué)和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具，并提供兩種曝光模式。標準μMLA使用光柵掃描曝光模式進行曝光，該模式速度快，可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度，而寫入時間與圖案密度的結(jié)構(gòu)大小無關(guān)?？蛇x的矢量掃描模式旨在以更快、更準確的方式對連續(xù)平滑的曲線（如波導(dǎo)）進行圖案化。三種光學(xué)設(shè)置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換，以優(yōu)化給定應(yīng)用的曝光。拉伸模式可以對現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進行直接的臨時修改，并可以與納米線或 2D 材料進行電接觸?；叶绕毓饽Ｊ皆试S創(chuàng)建復(fù)雜的 2.5 結(jié)構(gòu)，例如微光學(xué)設(shè)備。μMLA占地面積小，可放在普通桌子上。