RIE等離子刻蝕設備

1. 產(chǎn)品概述

RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動反應離子蝕刻系統(tǒng)，它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確的側壁輪廓控制和材料間的高蝕刻選擇性。RIE-10NR具有時尚、緊湊的設計，需要小的潔凈室空間。

2. 設備用途/原理

Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各種材料的蝕刻。故障分析中的選擇性層蝕刻。光阻劑的灰化、剝離和除塵。表面改性（潤濕性和附著力的改善）。

3. 設備特點

大加工范圍：?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)。高選擇性各向異性蝕刻滿足苛刻的工藝要求。全自動 "一鍵式 "操作，可手動操作。計算機觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友好的界面。自動壓力控制，可精確控制工藝壓力，不受氣體流量影響。干式泵和系統(tǒng)布局便于維護?？煽亢湍陀玫南到y(tǒng)，全球安裝了400多個系統(tǒng)。