芯片刻蝕機

簡要描述：ELEDE® 380系列芯片刻蝕機，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。

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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。

2. 設(shè)備用途/原理

優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。多片式托盤，實現(xiàn)高產(chǎn)能，同時確保優(yōu)異的刻蝕均勻性。全路徑全真空，全自動晶圓傳輸，顆粒控制優(yōu)。工藝套件設(shè)計，更長的耗材壽命。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸4、6 英寸及特殊尺寸。適用材料藍寶石、氮化鎵、氧化硅 / 氧化鈦、砷化鎵、磷化鎵、鋁鎵銦磷、氧化硅、氮化硅、鈦鎢、有機物。適用工藝 PSS 刻蝕、電刻蝕、深槽隔離刻蝕、介質(zhì)反射層（DBR）刻蝕、紅黃光刻蝕、鈍化層刻蝕、金屬阻擋層刻蝕。適用域化合物半導(dǎo)體。

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