8英寸槽式清洗設(shè)備

簡要描述：WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋優(yōu)良槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。

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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋優(yōu)良槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。

2. 設(shè)備用途/原理

該平臺工藝區(qū)為 12 吋優(yōu)良槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。精準(zhǔn)控制藥液混合比例。多樣的藥液比例擴展應(yīng)用。精準(zhǔn)的蝕刻速率控制。優(yōu)秀的干燥效果。軟件量身定制，具備快速更新能力。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 8 英寸，適用材料光阻、單晶硅、氧化硅、氮化硅、介質(zhì)膜、金屬膜、氮化鈦、硅化物。適用工藝預(yù)清洗、去膠清洗、氮化硅去除、金屬去除（Co,Ti）、Recycle 清洗。適用域集成電路、化合物半導(dǎo)體、新興應(yīng)用。

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