刻蝕機(jī)終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng) 檢測(cè)原理：通過(guò)特定波長(zhǎng)譜線的強(qiáng)度變化來(lái)反映是否達(dá)到刻蝕終點(diǎn)。

磁控濺射鍍膜機(jī)Sputter應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)薄膜。

脈沖激光沉積鍍膜機(jī)PLD系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-Beam 概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)Thermal Evaporation 設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類(lèi)：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機(jī)物等

低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡(jiǎn)介： 1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求 2. 直徑200毫米的石英室 3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗 4. 基片尺寸可達(dá)直徑150毫米 5. 三區(qū)電阻爐，150毫米的均勻溫度區(qū)