磁控濺射鍍膜機Sputter

1. 產(chǎn)品介紹

磁控濺射鍍膜機Sputter

2. 應用領域

巨磁電阻（GMR）、組合材料科學（CMS）、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機薄膜。

3. 技術參數(shù)

最大樣品尺寸：8英寸

濺射源：強磁靶、永磁靶，數(shù)量根據(jù)用戶定制

電源：直流電源、射頻電壓

真空系統(tǒng)：超高真空                              

樣品臺加熱：最高至1100℃

控制系統(tǒng)：全自動控制                            

進樣室：根據(jù)用戶需求定制                      

4. 企業(yè)簡介

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。