部件鍍膜設(shè)備

簡要描述：部件鍍膜設(shè)備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的Coating設(shè)備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.

產(chǎn)品型號：KaRon 設(shè)備
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-09-05
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產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

本裝置是一款在真空環(huán)境下對產(chǎn)品外部進行非導(dǎo)電體涂層的專業(yè)Coating設(shè)備。其核心特點包括：

真空環(huán)境操作：
設(shè)備在真空狀態(tài)下運行，確保涂層過程不受外界雜質(zhì)干擾，保證涂層質(zhì)量。
自傳與公轉(zhuǎn)結(jié)合：
產(chǎn)品在真空室內(nèi)不僅進行自轉(zhuǎn)，還同時進行公轉(zhuǎn)運動，這種復(fù)合運動方式有助于實現(xiàn)均勻且致密的涂層效果。
精確控制膜厚度：
設(shè)備具備精確的控制機制，能夠確保涂層保持一定的厚度，滿足不同的生產(chǎn)需求。
綜上所述，本裝置作為一款先進的真空Coating設(shè)備，通過其自轉(zhuǎn)與公轉(zhuǎn)結(jié)合的運動方式，以及精確的膜厚度控制能力，為產(chǎn)品外部非導(dǎo)電體涂層提供了高效、高質(zhì)量的解決方案

設(shè)備構(gòu)成	Thermal Evaporation
到達真空	3 x 10-6 Torr
排氣構(gòu)成	D/P + MBP + Rotary Pump
產(chǎn)品回轉(zhuǎn)	真空內(nèi)自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)驅(qū)動
Sputter Target	SUS,Ni,Al,Sn,Ti
Cycle Time	8~12 min