磁控濺射鍍膜設(shè)備

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 濺射平臺(tái)專為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計(jì)。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計(jì)、具有高級(jí)編程、負(fù)載鎖定功能的行業(yè)*軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設(shè)計(jì)提供的一些優(yōu)勢(shì)。®

LAB Line 系列與以下技術(shù)兼容：

• TORUS 磁控濺射（多達(dá) 12 個(gè)光源）®

• 可根據(jù)要求提供定制配置

KJLC創(chuàng)新的eKLipse™軟件允許用戶友好的配方創(chuàng)建以及圖形用戶界面，該界面對(duì)于新的PVD用戶來說是直觀的，而對(duì)于經(jīng)驗(yàn)豐富的專業(yè)人士來說則是高級(jí)的。有關(guān)此直觀、可靠的軟件包的更多信息，請(qǐng)參閱“軟件"選項(xiàng)卡。

應(yīng)用：

• R&D 濺射沉積

• 微電子學(xué)（金屬、金屬氧化物、電介質(zhì)）

• 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)（磁性薄膜）

• 磁性隧道結(jié)

• 超導(dǎo)材料

• 約瑟夫森交界處

• 光學(xué)薄膜和光子學(xué)

LAB Line 是 Kurt J. Lesker 的 UHV 磁控濺射平臺(tái)。

只有 KJLC 提供 Mag-Keeper 濺射源，該濺射源在陰極體中具有零 O 形圈和磁耦合靶材，可輕松更換靶材。我們的冷卻井設(shè)計(jì)可在高達(dá) 200 瓦/英寸的功率密度下運(yùn)行2.該陰極設(shè)計(jì)用于濺射厚達(dá) 0.375 英寸的目標(biāo)。如果沒有壓緊夾或暗空間屏蔽，這種陰極能夠運(yùn)行低至 1mTorr（取決于材料）。圓頂百葉窗設(shè)計(jì)消除了標(biāo)準(zhǔn)翻轉(zhuǎn)或擺動(dòng)百葉窗所需的額外交叉污染屏蔽需求。

單擊以了解有關(guān)濺射速率和均勻性的更多信息。

LAB Line 專為實(shí)現(xiàn)*均勻性而設(shè)計(jì)，并允許。左邊的圖表顯示了按沉積類型和襯底晶圓直徑劃分的平均預(yù)期均勻性。使用輪廓儀或光譜反射儀進(jìn)行厚度測(cè)量。實(shí)際可實(shí)現(xiàn)的均勻性將取決于系統(tǒng)和過程參數(shù)的最終配置。