原子層沉積ALD

1.產品概述：

 Beneq P1500 是我們大的原子層沉積系統，門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。

我們的客戶將 P1500 用于大直徑基板上的光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應用。

2.產品配置:

大型零件需要大型原子層沉積工具。 Beneq P1500 可容納大 1300 × 2400 mm 的零件，并且可以在廣域反射鏡或透鏡上沉積高質量、功能性的光學涂層。它還用于涂覆 300 至 1000 毫米尺寸范圍的批量零件。

可能的基材包括：

第 4 代至第 6 代顯示屏玻璃

光伏玻璃板

天文鏡

半導體腔室蓋、襯墊和淋浴噴頭

印刷電路板

可擴展性

3.產品優(yōu)勢：

提高較小基材批次的產量。 您目的涂料設備是否已滿負荷生產？Beneq P1500 能夠擴大批量生產的規(guī)模，并為您的工作流程增加額外的涂層容量。

與較小的批量工具相比，P1500 可以提高您的涂層產量。此外，其大批量容量可以降低涂裝較小零件的成本，使 ALD 在許多應用域中具有商業(yè)可行性。

P1500 配備了高容量驅體源和驅體滅活和過濾系統，用于沉積厚度從納米到微米不等的薄膜批次。

Beneq P1500 是我們堅固可靠的 P 系列的新示例，它受益于 35+ 多年的工業(yè) ALD 批量生產經驗。

P1500 可從室溫加熱到 400°C，輕松處理氣態(tài)、液態(tài)和固體驅體，包括有毒、自燃和腐蝕性驅體材料。

預熱烤箱

Beneq 有的預熱器。 我們可選的預熱烤箱縮短了加熱時間，并進一步提高了您的吞吐量。