離子束沉積設(shè)備

簡(jiǎn)要描述：光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，Veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場(chǎng)，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)今先進(jìn)的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當(dāng)今 EUV 掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。

產(chǎn)品型號(hào)：NEXUS IBD-LDD
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-06
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1.產(chǎn)品概述：

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導(dǎo)地位，實(shí)現(xiàn)當(dāng)下無缺陷的EUV掩模空白。

2.產(chǎn)品工藝：

光掩模制造需要高水平的顆?？刂疲瑫r(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來，Veeco已成功服務(wù)于光掩模市場(chǎng)，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)先進(jìn)的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當(dāng)EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的平臺(tái)

低的缺陷密度

優(yōu)異的均勻性和可重復(fù)性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中

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