薄膜計(jì)量光譜反射儀

1. 產(chǎn)品概述

RM 1000 和 RM 2000 光譜反射儀可測(cè)量表面光滑或粗糙的平面或彎曲樣品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert軟件計(jì)算單膜或?qū)盈B的厚度、消光系數(shù)和折射率。厚度分別為 2 nm 和 50 μm （RM 2000） 或 100 μm （RM 1000） 的單片、層疊和基板可以在 UV-VIS-NIR 光譜范圍內(nèi)進(jìn)行分析。

2. 主要功能與優(yōu)勢(shì)

突破折光率測(cè)量的限

SENTECH反射儀通過(guò)樣品的高度和傾斜調(diào)整以及光學(xué)布局的高光導(dǎo)率，具有精密的單光束反射率測(cè)量功能，允許對(duì)n和k進(jìn)行可重復(fù)的測(cè)量，在粗糙表面上進(jìn)行測(cè)量，以及對(duì)非常薄的薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量。

紫外到近紅外光譜范圍

RM1000 410 納米 – 1000 納米

RM2000 200 納米 – 1000 納米

高分辨率映射

RM 1000 和 RM 2000 反射儀可選配 x-y 成像臺(tái)和成像軟件以及用于小光斑尺寸的物鏡。

3. 靈活性和模塊化

SENTECH RM 1000 和 RM 2000 代表我們的反射儀。桌面設(shè)備包括高度穩(wěn)定的光源、帶有自動(dòng)準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡和顯微鏡的反射光學(xué)器件、攝像機(jī)、高度和傾斜度可調(diào)的樣品平臺(tái)、光譜光度計(jì)和電源。它可以選配 x-y 成像臺(tái)和成像軟件，以及用于第二種光斑尺寸的物鏡。

除了薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)外，薄膜的組成（例如氮化鎵上的AlGaN，硅上的SiGe），增透膜（例如在紋理硅太陽(yáng)能電池上，紫外線敏感的GaN器件）以及小型醫(yī)療支架上的涂層都可以通過(guò)我們的反射儀進(jìn)行測(cè)量。這些反射儀支持微電子、微系統(tǒng)技術(shù)、光電子、玻璃涂層、平板技術(shù)、生命科學(xué)、生物技術(shù)等域的應(yīng)用。

用于我們的反射儀 RM 1000 / 2000 的綜合性、以配方為導(dǎo)向的 SENTECH FTPadv EXPERT 軟件包括測(cè)量設(shè)置、數(shù)據(jù)采集、建模、擬合和報(bào)告。已經(jīng)內(nèi)置了一個(gè)包含預(yù)定義、客戶驗(yàn)證和即用型應(yīng)用程序的廣泛數(shù)據(jù)庫(kù)?！白詣?dòng)建模"選項(xiàng)允許從光譜庫(kù)中自動(dòng)選擇樣本模型。基于SENTECH在橢圓偏振光譜方面的業(yè)知識(shí)，龐大的材料庫(kù)和各種色散模型使我們的光譜反射儀能夠分析幾乎所有的材料和薄膜。操作員可以很容易地使用新的光學(xué)數(shù)據(jù)更新數(shù)據(jù)庫(kù)。SENTECH通過(guò)橢圓偏振光譜法測(cè)量具有未知光學(xué)特性的新材料，為客戶提供支持。