清洗設(shè)備

1.產(chǎn)品概述：

SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)提供了優(yōu)良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺(tái)能夠滿足無(wú)損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。

2.產(chǎn)品工藝：

晶圓尺寸：4、6、8英寸

小片的用工具

符合 SEMI S2、S8、S13

CE認(rèn)證

符合歐洲標(biāo)準(zhǔn)和機(jī)械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低電壓指令 2006/95/EC

DIN ISO 14.644 2

SECS/GEM 200/300 mm 工廠自動(dòng)化標(biāo)準(zhǔn)接口

3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

采用A+噴嘴在整個(gè)掩模上連續(xù)涂布介質(zhì)，使顯影的沖擊力小化。

顯影劑主動(dòng)脫氣，可防止微氣泡的產(chǎn)生，實(shí)現(xiàn)低的缺陷計(jì)數(shù)。

將PEB升為含APB的集群設(shè)備

高效的化學(xué)過(guò)濾（胺/酸）和精確的溫、濕度控制

含SMIF裝/卸載的全自動(dòng)化

增強(qiáng)的工藝控制與監(jiān)測(cè)功能

與曝光后烘烤系統(tǒng)APB9500結(jié)合，獲得佳效果