反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

1.產(chǎn)品概述：

 asmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。

2.產(chǎn)品特點(diǎn)：

PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。

3.產(chǎn)品工藝：

高性能工藝

準(zhǔn)確的襯底溫度控制

準(zhǔn)確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

大型下電 - 低成本

刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 可靠性和可維護(hù)性俱佳

通過(guò)激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進(jìn)行終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 增強(qiáng)刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機(jī)分離，放置在遠(yuǎn)端服務(wù)區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動(dòng)速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性