單晶圓刻蝕系統(tǒng)

    1. 產(chǎn)品概述

憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)既能夠滿足性價(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)為得到更為精細(xì)的刻蝕效果提供了智能解決方案，使您在行業(yè)中能保持競爭優(yōu)勢。

2. 特色參數(shù)

高效的刻蝕速率

低購置成本

為腐蝕性的化學(xué)成分而設(shè)計(jì)

出色的刻蝕均勻性

適用于藍(lán)寶石的靜電壓盤技術(shù)

藍(lán)寶石和硅上的GaN

高導(dǎo)通抽氣系統(tǒng)

可與其它PlasmaPro系統(tǒng)集成

主動(dòng)冷卻電 - 在刻蝕過程中保持樣品溫度。

高功率ICP源 - 產(chǎn)生高密度等離子體。

可靠的硬件且易于維護(hù) - 可保持長時(shí)間正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

磁場墊環(huán) - 增強(qiáng)離子的控制和均勻性。

靜電壓盤技術(shù) - 適用于藍(lán)寶石，以及藍(lán)寶石和硅基的GaN。

加熱的腔室內(nèi)襯 - 優(yōu)化以減少腔壁沉積。

先進(jìn)的自動(dòng)匹配單元（AMU） - 提供快速，高效和準(zhǔn)確的匹配，確保了工藝的高度精準(zhǔn)重復(fù)性