氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備

1. 產(chǎn)品概述：

Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是一款專門為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等領(lǐng)域提供高效金屬沾污控制解決方案的先進設(shè)備。隨著晶圓制造產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，對金屬沾污控制的要求日益嚴(yán)格，而傳統(tǒng)的測量方法如TXRF（全反射X射線熒光）和ICP-MS（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry）所能達到的測量限已經(jīng)無法滿足這一行業(yè)的需求。因此，VPD的出現(xiàn)，正是為了解決這一亟待突破的技術(shù)瓶頸。

該設(shè)備通過在晶圓表面金屬沾污物質(zhì)進行有效富集，顯著提高了檢測的靈敏度，使得用戶能夠在更低的濃度水平下對金屬沾污進行精準(zhǔn)測量，從而確保了晶圓產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性，極大地滿足了現(xiàn)代化晶圓生產(chǎn)線的各項需求。

VPD設(shè)備不僅采用了12英寸及8英寸產(chǎn)業(yè)線設(shè)備普遍使用的國際標(biāo)準(zhǔn)零部件，還嚴(yán)格遵循了SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International）的設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)。這些標(biāo)準(zhǔn)及其相關(guān)認證確保了設(shè)備的兼容性及可操作性。同時，VPD經(jīng)歷了嚴(yán)苛的穩(wěn)定性和可靠性測試，確保在各種復(fù)雜的生產(chǎn)環(huán)境中持久高效地運作。通過這些設(shè)計與測試，該設(shè)備能夠為客戶提供強有力的技術(shù)支持，使他們在競爭日益激烈的市場中始終保持地位。

氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備

2. 系統(tǒng)特性：

12英寸/8英寸兼容，應(yīng)用于IC制造，12英寸大晶圓生產(chǎn)和再生，先導(dǎo)工藝研發(fā)等域

采用托盤可實現(xiàn)6英寸兼容

可搭配電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）或全反射熒光光譜分析儀（TXRF）

VPD 與 ICP-MS或TXRF組合，可將檢測靈敏度提高2個數(shù)量，滿足上述域的痕量金屬沾污監(jiān)控需求