電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備

簡(jiǎn)要描述：詳細(xì)介紹
CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過(guò)程中，等離子體中會(huì)包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價(jià)比和空間利用率上優(yōu)點(diǎn)突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

產(chǎn)品型號(hào)：Haasrode® Avior® A
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-04
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詳細(xì)介紹

電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備

1. 產(chǎn)品概述：

CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過(guò)程中，等離子體中會(huì)包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價(jià)比和空間利用率上優(yōu)點(diǎn)突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機(jī)適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝可用于6英寸及以下晶圓

2. 系統(tǒng)特性

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機(jī)臺(tái)

適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝

可用于6英寸及以下晶圓

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