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簡要描述：Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性（片內<8%，片間<5%）和顆?？刂啤Ｔ?微米厚鋁刻蝕工藝中，可以提供8000片/月的產能。該設備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率，可為客戶產能升級提供幫助。
產品型號：Kessel® Pishow® M廠商性質：經銷商更新時間：2024-09-04訪 問 量： 351產品分類
Product Category詳細介紹
1. 系統(tǒng)特性
Kessel® Pishow® M 金屬刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備
設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（stripchamber）、冷卻腔（cooling chamber）、傳輸模塊（transfer module）構成適用于0.11微米及其它技術代的鋁墊刻蝕及鎢回刻（W Recess）工藝也可換用6英寸ESC。
2. 工藝數(shù)據
鋁墊刻蝕
鋁線工藝
鎢塞刻蝕
3. 詳細介紹
Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性（片內<8%，片間<5%）和顆?？刂?。在4微米厚鋁刻蝕工藝中，可以提供8000片/月的產能。
該設備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率，可為客戶產能升提供幫助。
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