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    雙面拋光機

    簡要描述:雙面拋光機分為雙面機械拋光和雙面化學拋光兩種,分別代表雙面拋光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面拋光,操作簡單,搭配不同的夾具,拋光墊,拋光液可以實現(xiàn)不同材料,不同尺寸,不同厚度的晶片拋光。

    • 產(chǎn)品型號:TDP-1200/1200A
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時間:2024-09-06
    • 訪  問  量: 396

    詳細介紹

    1.  產(chǎn)品概述:

    雙面拋光機是一種專門用于對材料兩面進行高精度、高效率拋光處理的機械設(shè)備。它廣泛應用于半導體硅片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的加工過程中,以提高產(chǎn)品的表面光潔度和精度。雙面拋光機通過上下兩個拋光盤的旋轉(zhuǎn),利用摩擦力和磨料的作用,去除工件表面的毛刺、氧化層等雜質(zhì),從而達到拋光的目的。

    2 設(shè)備用途/原理:

    雙面拋光機的主要用途包括:

    1. 半導體硅片加工:在半導體行業(yè)中,雙面拋光機被用于硅片的雙面拋光,以提高硅片的表面平整度和光潔度,滿足后續(xù)工藝的需求。

    2. 光學玻璃加工:在光學領(lǐng)域,雙面拋光機能夠確保光學玻璃的兩面都達到光學精度,滿足精密光學儀器的要求。

    3. 金屬材料加工:對于金屬材料,雙面拋光機能夠去除表面的氧化層和毛刺,提高金屬件的表面質(zhì)量和美觀度。

    4. 藍寶石加工:在藍寶石等硬脆材料的加工中,雙面拋光機能夠?qū)崿F(xiàn)高效、高精度的拋光,滿足LED、藍寶石襯底等領(lǐng)域的需求。

    3. 設(shè)備特點

    雙面拋光機具有以下特點:

    1. 高精度:雙面拋光機能夠?qū)示忍岣叨噙_20倍,這對于精密加工領(lǐng)域具有重要意義。它能夠確保工件的兩面都達到平整度和光潔度。

    2. 高效率:采用雙盤對磨的方式,能夠同時加工工件的兩面,大大提高了加工效率。此外,設(shè)備還具有自動進給功能,可根據(jù)加工進度自動調(diào)整拋光壓力和速度。

    3. 多材料適用:雙面拋光機適用于多種硬脆材料的拋光,包括半導體硅片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料等,具有廣泛的加工適應性。

    4. 多工藝兼容:設(shè)備支持粗拋、中拋、精拋等多種拋光工藝,能夠滿足不同加工需求。同時,采用分段加壓控制,能夠根據(jù)不同工藝要求準確調(diào)整拋光壓力和速度。



    綜上所述,雙面拋光機是一種高精度、高效率、多材料適用、多工藝兼容的拋光加工設(shè)備,在半導體、光學、金屬等多個領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。



    4 設(shè)備參數(shù)


    規(guī)格/參數(shù)

    TDP-1200

    TDP-1200A

    制程工藝

    雙面機械拋光

    雙面化學機械拋光

    加壓方式

    氣囊

    氣囊

    拋光壓力

    Max1000 kgf

    Max1000 kgf

    上下拋光盤尺寸

    OD1100 mm

    OD1100 mm

    游星輪規(guī)格

    14B*6

    14B*6

    上下拋光盤轉(zhuǎn)速

    0-70 RPM

    0-70 RPM

    內(nèi)環(huán)轉(zhuǎn)速

    0-115 RPM

    0-115 RPM

    外環(huán)轉(zhuǎn)速

    0-40 RPM

    0-40 RPM

    外環(huán)升降






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