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    當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  1 光刻設(shè)備  >  DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機(jī).

    激光光刻機(jī).

    簡要描述:DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。

    • 產(chǎn)品型號(hào):DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時(shí)間:2024-09-06
    • 訪  問  量: 385

    詳細(xì)介紹

    1. 產(chǎn)品概述

    MPO 100是海德堡儀器推出的一款先進(jìn)多用戶工具,專門為復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的3D光刻和3D顯微打印而設(shè)計(jì)。作為一款頂尖的設(shè)備,MPO 100采用了先進(jìn)的雙光子聚合(TPP)技術(shù),這一技術(shù)在微光學(xué)、光子學(xué)、微力學(xué)以及生物醫(yī)學(xué)工程等多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用中表現(xiàn)出色,推動(dòng)了這些領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步和創(chuàng)新。

    MPO 100所提供的多功能平臺(tái),使其在精度和生產(chǎn)效率方面達(dá)到一定水平。它能夠在單一高效的工藝步驟中,快速而準(zhǔn)確地生產(chǎn)出復(fù)雜的功能性微結(jié)構(gòu)。這一特性尤其適用于需要精細(xì)設(shè)計(jì)和高可靠性的應(yīng)用,如高性能光學(xué)元件、微流體器件以及生物傳感器等,滿足市場(chǎng)對(duì)高精度和高效能的需求。

    MPO 100的靈活性使得它可以適應(yīng)多種材料和設(shè)計(jì)需求,支持不同用戶的應(yīng)用。此外,該設(shè)備的高吞吐量確保了生產(chǎn)效率,使得科研人員和工程師能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行多次實(shí)驗(yàn)和迭代,從而加速產(chǎn)品開發(fā)和技術(shù)驗(yàn)證。

    2. 主要特點(diǎn)

    高精度和高吞吐量:以低至 100 nm 的小特征尺寸實(shí)現(xiàn)精度。受益于掃描速度超過 1000 mm/s 的高速 3D 打印以及體素調(diào)優(yōu)。

    多種材料兼容性:利用 522 nm 的強(qiáng)大飛激光系統(tǒng)高效處理各種聚合物。利用經(jīng)過行業(yè)驗(yàn)證的ORMOCER®雜化聚合物,具有的光學(xué)、機(jī)械和化學(xué)性能。

    免拼接微光學(xué)元件:通過無限視場(chǎng) IFoV) 制造模式,無需拼接即可創(chuàng)建精確的微光學(xué)元件。

    模塊化3D打印平臺(tái): 3D 光刻和 3D 顯微打印之間無縫切換,具有特定于應(yīng)用的寫入模式和基板支架。制造高度超過 1 cm 的宏觀結(jié)構(gòu)和表面粗糙度低至 10 nm 的微觀結(jié)構(gòu)。

    體素調(diào)優(yōu)功能:在掃描過程中對(duì)體素尺寸進(jìn)行微調(diào),以減少所需的層數(shù)。

    3. 應(yīng)用

    微光學(xué):無需拼接即可創(chuàng)建高精度微光學(xué)元件,確保無縫集成。

    光子學(xué):將光子器件直接寫入基板上,從而優(yōu)化器件性能和集成度。

    細(xì)觀力學(xué):生產(chǎn)具有高精度和可靠性的復(fù)雜微機(jī)械結(jié)構(gòu)。

    生物醫(yī)學(xué)工程:制造針對(duì)特定應(yīng)用量身定制的復(fù)雜生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和支架。

    量子器件:開發(fā)高精度和定制化的先進(jìn)量子器件,用于沿研究和應(yīng)用。

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