等離子體增強CVD系統(tǒng)

1. 產(chǎn)品概述

PD-100ST是一種用于研發(fā)的低溫(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)等離子體增強CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)TEOS源，以低應力沉積SiO2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100 µm）。PD-100ST具有時尚、緊湊的設計，只需要小的潔凈室空間。

2. 設備用途/原理

塑料材料上保護膜的沉積。在3D LSI的通孔側壁上沉積絕緣膜。光波導的制造（光纖芯/包層）。制造用于微型機械生產(chǎn)的面罩。覆蓋高縱橫比結構，如MEMS器件。SAW設備的溫度補償膜和鈍化膜。

3. 設備特點

沉積物達?100 mm（4"）。陰耦合自偏析沉積技術可以實現(xiàn)低應力薄膜的高速（>300 nm/min）沉積。通過低溫沉積，可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結構的優(yōu)秀階梯覆蓋率，使用鍺、磷、硼液源控制折射率。PD-100ST設計時尚、緊湊，只需要小的潔凈室空間。