熱原子層沉積系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述：Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具備良好的防酸腐蝕能力。

產(chǎn)品型號(hào)：Scaler HK430
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2024-09-05
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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性。

2. 設(shè)備用途/原理

Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性，腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具備良好的防酸腐蝕能力，優(yōu)化機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu)，縮小占地面積。友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計(jì)保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 12 英寸，適用材料氧化鉿、氧化鋯、氧化鋁，適用工藝柵介質(zhì)層、介質(zhì)層、鈍化層，適用域科研、集成電路、優(yōu)良封裝。原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒āＴ訉映练e與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。