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    掃描式光刻機(jī)

    簡要描述:1、Nikon S206D掃描式光刻機(jī)
    光源波長248nm
    分辨率優(yōu)于0.12µm
    主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線
    廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域
    2、產(chǎn)品詳情
    主要技術(shù)指標(biāo)
    分辨率0.12µm
    N.A.0.82
    曝光光源248nm
    倍率4:1
    最大曝光現(xiàn)場25mm*33mm
    對準(zhǔn)精度
    20nm

    • 產(chǎn)品型號:Nikon S206D
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時間:2024-09-04
    • 訪  問  量: 477

    詳細(xì)介紹

    一、產(chǎn)品概述:

    Nikon S206D 掃描式光刻機(jī)是一款高效的半導(dǎo)體制造設(shè)備,專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)而設(shè)計。該機(jī)型采用先進(jìn)的掃描光刻技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移,廣泛應(yīng)用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和良好的穩(wěn)定性,S206D 適合大批量生產(chǎn),同時友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,提升了用戶體驗(yàn)。這使得 Nikon S206D 成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中重要工具,滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

    二、設(shè)備用途/原理:

    該設(shè)備通過高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經(jīng)過高分辨率光學(xué)系統(tǒng),將掩模圖案精確掃描并投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,隨后進(jìn)行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,采用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon S206D 能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。

    三、主要技術(shù)指標(biāo)

    分辨率

    0.12µm

    N.A.

    0.82

    曝光光源

    248nm

    倍率

    4:1

    大曝光現(xiàn)場

    25mm*33mm

    對準(zhǔn)精度

    20nm

    四、設(shè)備特點(diǎn)

    Nikon S206D掃描式光刻機(jī)

    光源波長248nm

    分辨率優(yōu)于0.12µm

    主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線

    廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等



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