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    晶圓甩干機

    簡要描述:1.是高潔凈度的沖洗旋干設備。主要系應用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。
    2.產(chǎn)品類型:有立式單腔,雙腔晶圓甩干機(2-12寸),水平多工位甩干機(2-12寸)
    3.單次甩干數(shù)量1-25塊
    4.作業(yè)程序:沖洗、烘干的步驟順序、時間、 轉(zhuǎn)速等可分段編輯,(可設 recipe 為 10 個)

    • 產(chǎn)品型號:customized
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時間:2024-09-06
    • 訪  問  量: 1226

    詳細介紹

    1. 產(chǎn)品概述:

    晶圓甩干機是一種利用離心力去除晶圓表面多余液體的高精密設備。它能夠在短時間內(nèi)將晶圓表面的化學溶液、去離子水等液體甩干,確保晶圓的干燥度滿足后續(xù)工藝的需求。其主要工作原理是利用高速旋轉(zhuǎn)的甩干盤產(chǎn)生的離心力,輔以精密的機械臂運動系統(tǒng),將附著在晶圓表面的液體迅速甩干,同時優(yōu)良的控制系統(tǒng)和傳感器確保整個過程的精確和穩(wěn)定。

    2. 設備應用

    · 半導體制造:在半導體制造過程中,晶圓需經(jīng)過多道清洗工序以去除殘留物和污染物,晶圓甩干機在這一環(huán)節(jié)起著重要作用,能夠高效去除晶圓表面的水分和化學溶劑,為后續(xù)的光刻、蝕刻、沉積等工序創(chuàng)造潔凈的工作環(huán)境。

    · 光電領域:用于去除光學元件表面的水分,提高元件的質(zhì)量和性能。

    · 其他電子行業(yè):如在電子、航空航天等行業(yè)中,可用于去除零件表面的水分,從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。

    3. 設備特點

    · 高效甩干:采用離心力甩干的方式,能夠快速而均勻地將晶圓上的水分甩離,避免水分殘留導致的后續(xù)工藝問題,甩干速度快、效果好,提高生產(chǎn)效率。

    · 自動化控制:具備自動化控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓的自動上料、甩干和下料,減少人工操作。

    · 良好密封性能:可以有效防止水分泄漏,保護生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度。

    · 結(jié)構(gòu)緊湊:占地面積小,適用于各種規(guī)模的半導體生產(chǎn)線。

    · 高性能材料:采用優(yōu)良的材料制成,確保設備長期穩(wěn)定運行。

    4. 產(chǎn)品參數(shù)

    · 甩干腔室尺寸:決定了可容納晶圓的大小和數(shù)量。

    · 旋轉(zhuǎn)速度:高速旋轉(zhuǎn)以產(chǎn)生足夠的離心力,轉(zhuǎn)速范圍可能根據(jù)不同型號有所變化。

    · 單次甩干數(shù)量:例如有設備可單次甩干 1 - 25 塊晶圓。

    · 作業(yè)程序:沖洗、烘干的步驟順序、時間、轉(zhuǎn)速等可分段編輯,有的設備可設 recipe 為 10 個。

    · 設備尺寸:包括整體的長、寬、高尺寸,反映設備的占地面積和空間需求。

    · 實際參數(shù)可能會因設備的具體配置和定制需求而有所不同。











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