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    激光退火設(shè)備

    簡(jiǎn)要描述:半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程,通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì),以實(shí)現(xiàn)所需的特性,如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激光退火機(jī)利用高能激光束來(lái)對(duì)半導(dǎo)體基片進(jìn)行精確和控制的加熱和修改。

    • 產(chǎn)品型號(hào):customized
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
    • 更新時(shí)間:2024-09-06
    • 訪  問(wèn)  量: 1286

    詳細(xì)介紹

    1. 產(chǎn)品概述

    半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程,通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì),以實(shí)現(xiàn)所需的特性,如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激光退火機(jī)利用高能激光束來(lái)對(duì)半導(dǎo)體基片進(jìn)行精確和控制的加熱和修改??啥ㄖ疲缬行枨笳?qǐng)聯(lián)系。

    2. 設(shè)備特點(diǎn)

    應(yīng)用范圍:對(duì)重?fù)诫s碳化硅(SiC)表面沉積的過(guò)渡金屬進(jìn)行退火,形成良好的歐姆接觸

    加工尺寸:4inch、6inch

    加工速度:1000mm/s

    加工精度:±1μm平臺(tái)參數(shù):行程300mm×300mm

    重復(fù)定位精度:±0.001mm

    激光器參數(shù):紫外

    稼動(dòng)率:98%以上

    重大故障間隙時(shí)間:>1000H

    良率:≥99.5%

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