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    當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  2 PVD  >  For Half Mirror Coating部件鍍膜設(shè)備

    部件鍍膜設(shè)備

    簡要描述:部件鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以,以In-Line Sputter工程的最佳化摸品質(zhì)提高- 以Both Side Sputtering 實(shí)現(xiàn),量產(chǎn)性和品質(zhì)證明(透過率25%以上),精密儀器安裝及優(yōu)秀設(shè)備耐用性保持,維修時間長,費(fèi)用低廉。

    • 產(chǎn)品型號:For Half Mirror Coating
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時間:2024-09-05
    • 訪  問  量: 345

    詳細(xì)介紹

    在高真空環(huán)境中,我們發(fā)明了一種創(chuàng)新的In-line Sputter生產(chǎn)技術(shù),實(shí)現(xiàn)了高大量生產(chǎn)率和出色的品質(zhì)。這款1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品采用了Both Side Sputtering工藝,不僅提高了生產(chǎn)效率,還確保了優(yōu)異的光學(xué)性能,透過率可達(dá)25%以上。

    通過精密儀器的安裝和優(yōu)質(zhì)設(shè)備的使用,我們確保了制造過程的穩(wěn)定性和一致性。同時,我們采用了自主研發(fā)的優(yōu)質(zhì)材料,相比市面上的同類產(chǎn)品,大幅降低了成本,從而提升了產(chǎn)品的性價比。

    我們專注于工藝的優(yōu)化和完善,致力于提高In-Line Sputter工藝的產(chǎn)品品質(zhì)。通過對電弧放電等關(guān)鍵參數(shù)的精準(zhǔn)控制,我們能夠確保產(chǎn)品的可靠性和一致性,同時大幅縮短了維修時間,降低了后期維護(hù)成本。

    這一系列的技術(shù)創(chuàng)新和工藝優(yōu)化,使我們的In-line Sputter產(chǎn)品在高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)了高大量生產(chǎn)率和品質(zhì)表現(xiàn),為客戶提供了優(yōu)質(zhì)高效的解決方案。我們將繼續(xù)投入研發(fā),不斷推動技術(shù)進(jìn)步,為客戶創(chuàng)造更大價值。

    Chamber & Door5 chambers, STS(SUS)304
    Pumping SystemPRP + MBP + DRY + TMP / DP
    Cooling Devices* Cryo Cooled Polycold Unit
    * Cooling Traps for Pumping Unit
    * Cooling Chiller for Cathode
    Power SupplyDC Power Generator
    Control UnitPLC, Touch Screen
    Cycle Time270sec / carrier (根據(jù)產(chǎn)品可能有所不同)



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