金屬有機源氣相沉積系統

1.  產品概述：

金屬有機源氣相沉積系統（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD）是一種先進的薄膜材料制備技術，通過金屬有機前體和反應氣體在基底表面上的熱解和反應，形成所需的薄膜材料。該系統主要由真空室反應系統、氣體（載氣與氣相有機源）輸運控制系統、有機源蒸發(fā)輸運控制系統、電源控制系統、尾氣處理及安全保護報警系統組成。

MOCVD系統具有高質量、穩(wěn)定性、重復性及多功能性等優(yōu)點，是當今世界上生產半導體光電器件和微波器件材料的主要手段。它廣泛應用于半導體、光電子、光伏和顯示等領域，用于制備各種功能性薄膜材料，如氮化物、磷化物和氧化物等。

2 設備用途/原理：

1. 半導體材料制備：MOCVD系統可用于制備三五族或二六族化合物半導體薄膜，如砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）、氮化鎵（GaN）等，這些材料廣泛應用于集成電路、光電器件和微電子元件中。

2. 光電器件生產：利用MOCVD技術可以生產發(fā)光二極管（LED）、激光二極管（LD）、太陽能電池等光電器件。特別是藍光和白光LED的核心結構，如GaN和InGaN薄層序列，就是通過MOCVD工藝實現的。

3. 微電子元件制造：MOCVD技術還可用于制造異質結雙極性晶體管（HBT）、假晶式高電子遷移率晶體管（PHEMT）等微電子元件。

4. 研究與開發(fā)：研究機構和大學也使用MOCVD設備進行科學研究和開發(fā)新的薄膜材料，以推動相關領域的技術進步。

3. 設備特點

1 高精度控制：MOCVD系統具有高度的自動化和精確的控制能力，可以精確控制反應條件（如溫度、壓力和氣體流量），以優(yōu)化薄膜的成分、結構和性質。

2  高效生產：該系統能夠實現大規(guī)模、高效率的薄膜材料生產，滿足工業(yè)化生產的需求。

3  多功能性：MOCVD技術不僅限于制備單一類型的薄膜材料，還可以實現多種材料的交替生長，為制備復雜結構的器件提供了可能。

4  安全保護：系統配備有尾氣處理及安全保護報警系統，確保在有毒氣體環(huán)境下操作的安全性。

4 設備參數

真空室結構:臥室

真空室尺寸:Ф400mm×300mm（L）

限真空度:10 Pa

沉積源:設計待定

樣品尺寸，溫度:設計待定

占地面積（長x寬x高）:約4.5米x3.5米x3米（設計待定）

電控描述:屏幕操作