高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

簡要描述：高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號：DZ450
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-09-05
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1.產(chǎn)品概述：

該設(shè)備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。

2.設(shè)備用途：

熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等。

3.真空室：

真空室結(jié)構(gòu):方形開門

真空室尺寸:400×400×450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:3個鎢舟、2個有機源

樣品尺寸，溫度:4寸，1片，高800℃

占地面積（長x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:全自動

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±5%

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