高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

簡要描述：產(chǎn)品概述：
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

設(shè)備用途：
可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

產(chǎn)品型號：TRP450
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-09-05
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詳細(xì)介紹

1.產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途：
可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
3.用戶評價：
TRP-450高真空鍍膜機(jī)其設(shè)備質(zhì)量過關(guān)，功能齊全，性能穩(wěn)定，自動化程度高，抽氣速平穩(wěn)，電源穩(wěn)定可靠，氣路流暢密閉，鍍膜質(zhì)量平整光滑，均勻致密，結(jié)合力強(qiáng)，且系統(tǒng)操控智能，便捷，可滿足科研實驗與生產(chǎn)制造的需求，是一款優(yōu)秀的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)?！本┦┘夹g(shù)研究院有限公司李老師
4.真空室：

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形開門

真空室尺寸:φ450x400mm

限真空度:≤6.6E-6Pa

沉積源:永磁靶3套，φ2英寸，可以向上濺射或向下濺射。

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，高800℃

占地面積（長x寬x高）:約1米×1.8米×2米
電控描述:全自動

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%

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