<menu id="iemyc"><acronym id="iemyc"></acronym></menu>
  • <dfn id="iemyc"><source id="iemyc"></source></dfn>
    <code id="iemyc"><del id="iemyc"></del></code>
  • <strike id="iemyc"><code id="iemyc"></code></strike>
    歡迎來到深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司網(wǎng)站!
    咨詢熱線

    當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備  >  3 CVD  >  SI PEALDPEALD 系統(tǒng)

    PEALD 系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類,而沒有紫外線輻射或離子轟擊。SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)熱和等離子體增強(qiáng)操作。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以配置為氧化物、氮化物、二維材料沉積。3D結(jié)構(gòu)可以均勻和保形涂層。憑借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等離子體沉積技術(shù),用于沉積

    • 產(chǎn)品型號(hào):SI PEALD
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時(shí)間:2024-08-12
    • 訪  問  量: 294

    詳細(xì)介紹

    主要功能與優(yōu)勢(shì)

    用于敏感基材的PEALD

    SENTECH SI PEALD系統(tǒng)具有真正的遠(yuǎn)程等離子體源,可在低溫<100°C)下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層的涂層。 在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類,而沒有紫外線輻射或離子轟擊。

    原子層沉積 (ALD) 用于精確、保形和均勻的沉積

    原子層沉積技術(shù)的特點(diǎn)是能夠沉積保形和均勻的薄膜,并在原子水平上精確控制厚度,并繼續(xù)在半導(dǎo)體器件中發(fā)揮越來越大的作用,例如高介電原理材料的沉積。原子層沉積的一些主要應(yīng)用包括傳感器、光電子學(xué)和 2D 材料。

    用于工藝開發(fā)和優(yōu)化的原位診斷

    AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器的原位診斷可實(shí)現(xiàn)單個(gè) ALD 周期的超高分辨率。其優(yōu)點(diǎn)是確認(rèn)原子層沉積(ALD)制度,縮短處理時(shí)間,并降低總擁有成本。光譜橢圓偏振儀也作為原位診斷提供,為我們的原子層沉積系統(tǒng)具有特定的優(yōu)勢(shì)。

    反應(yīng)器清潔簡(jiǎn)單

    定期清潔反應(yīng)器對(duì)于穩(wěn)定和可重復(fù)的原子層沉積處理至關(guān)重要。在用于清潔我們的原子層沉積系統(tǒng)的提升裝置的幫助下,可以很容易地打開反應(yīng)器室。

    集群集成

    原子層沉積系統(tǒng)可作為SENTECH集群工具的模塊使用。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以與SENTECH PECVD和蝕刻系統(tǒng)結(jié)合使用,用于工業(yè)應(yīng)用。集群工具可選地具有盒到盒加載功能。

    手套箱系統(tǒng)集成

    SENTECH ALD系統(tǒng)與不同供應(yīng)商的手套箱兼容。

    靈活性和模塊化

    SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)允許將不同的熱和/或等離子體增強(qiáng)原子層沉積膜組合成多層結(jié)構(gòu)。熱和等離子體增強(qiáng)原子層沉積 (PEALD) 支持在一個(gè)具有最佳快門的反應(yīng)器中。

    SENTECH使用AL實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀以及寬范圍光譜橢圓偏振儀,對(duì)逐層薄膜生長(zhǎng)進(jìn)行的、超快速的原位監(jiān)測(cè)。

    SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)熱和等離子體增強(qiáng)操作。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以配置為氧化物、氮化物、二維材料沉積。3D結(jié)構(gòu)可以均勻和保形涂層。憑借 ALD、PECVD 和 ICPECVD,SENTECH 提供等離子體沉積技術(shù),用于沉積納米級(jí)至幾微米的薄膜。



    產(chǎn)品咨詢

    留言框

    • 產(chǎn)品:

    • 您的單位:

    • 您的姓名:

    • 聯(lián)系電話:

    • 常用郵箱:

    • 省份:

    • 詳細(xì)地址:

    • 補(bǔ)充說明:

    • 驗(yàn)證碼:

      請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果(填寫阿拉伯?dāng)?shù)字),如:三加四=7
    抽搐高潮喷水流白浆在线精品视频,国产97碰久久免费视频,黄片视频福利大全,一区二三区二三无码区在线
    <menu id="iemyc"><acronym id="iemyc"></acronym></menu>
  • <dfn id="iemyc"><source id="iemyc"></source></dfn>
    <code id="iemyc"><del id="iemyc"></del></code>
  • <strike id="iemyc"><code id="iemyc"></code></strike>