激光掩模光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 MEMS。

ULTRA 是一種經(jīng)濟(jì)型光刻機(jī)解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及極其精確的對(duì)準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動(dòng)掩模處理、Zerodur® 平臺(tái)、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。

產(chǎn)品型號(hào)：ULTRA
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-09-04
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產(chǎn)品概述：

ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 MEMS。

操作
用戶界面（軟件）	半兼容 GUI
大寫入?yún)^(qū)域	228 x 228 mm2 （可根據(jù)要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據(jù)要求提供更大的和其他基材）

系統(tǒng)特點(diǎn)
光學(xué)	0.9 NA物鏡低失真紫外光學(xué)元件自動(dòng)校準(zhǔn)程序
激光	355nm波長(zhǎng)的高功率二管泵浦固體激光器
對(duì)焦系統(tǒng)	實(shí)時(shí)光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦
對(duì)準(zhǔn)	攝像系統(tǒng) 失真補(bǔ)償全局和逐場(chǎng)對(duì)準(zhǔn) 邊緣檢測(cè)器
數(shù)據(jù)路徑	實(shí)時(shí)壓縮可擴(kuò)展的硬件概念輸入格式：所有標(biāo)準(zhǔn)格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空間光調(diào)制器	頻率 350 kHz 數(shù)據(jù)速率 2.4 GB/s
自動(dòng)化	全自動(dòng)口罩處理，帶兩個(gè)大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議

系統(tǒng)尺寸	系統(tǒng) / 電子機(jī)架
寬度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
壓縮空氣	7 - 10 bar （不含油或其他殘留物）