活性化退火設(shè)備

1. 產(chǎn)品概述

PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設(shè)備。可大對(duì)應(yīng)φ 150mm。活性化退火設(shè)備?是一種專門用于半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)設(shè)備，它屬于退火爐的一種，用于加熱半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。退火爐在半導(dǎo)體器件制造中扮演著重要的角色，通過加熱晶片來激活摻雜劑、轉(zhuǎn)換薄膜形態(tài)、修復(fù)注入損傷等，從而改善半導(dǎo)體的電氣性能。這種設(shè)備通常具有節(jié)能型周期式作業(yè)爐結(jié)構(gòu)，采用超節(jié)能設(shè)計(jì)和纖維結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)高效節(jié)能。此外，活性化退火設(shè)備還能夠集成到其他爐子處理步驟中，如氧化處理，或者獨(dú)立進(jìn)行處理，以滿足不同的工藝需求。

2. 設(shè)備用途/原理

SiC功率器件用。研究開發(fā)。量產(chǎn)用。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大可對(duì)應(yīng)φ150mm基板。大可加熱2000℃。高真空對(duì)應(yīng)。單批次25片一次性處理（也有5片處理機(jī)）