產(chǎn)品概述： 高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

Epiluvac 產(chǎn)品通常作為完整的系統(tǒng)交付，包括反應(yīng)器模塊、氣體輸送系統(tǒng)、過程控制、安全系統(tǒng)、安裝和調(diào)試。每個(gè)系統(tǒng)在發(fā)貨前都經(jīng)過廣泛的測試，一旦安裝，交付還包括所有必要的客戶操作和維護(hù)培訓(xùn)。

laurell的WS-650-8 B 型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （178mm×178mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000 RPM（基于100mm硅片）。

laurell的WS-650-23B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000 RPM（基于100mm硅片）。

laurell的H6-15系列勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款650系列HL涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納高達(dá)300mm 的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為 12,000 RPM（基于100mm硅片）。

Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實(shí)現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性，以及低缺陷率。Veeco 提供了一系列 GaN 和 As/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)，提高吞吐量，同時(shí)降低包括顯示器、3D 傳感、LiDAR、微型 LED 顯示器和光學(xué)數(shù)據(jù)通信在內(nèi)的各種應(yīng)用的擁有成本。